Atomic Layer Deposition
Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition process renowned for its ability to produce layers with unrivaled control of thickness and composition, conformability to extreme three-dimensional structures, and versatility in the materials it can produce. These range from multi-component co...
محفوظ في:
| التنسيق: | Online |
|---|---|
| اللغة: | الإنجليزية |
| منشور في: |
MDPI - Multidisciplinary Digital Publishing Institute
2021
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | ONIX_20210501_9783039366521_619 |
| الوسوم: |
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|