Atomic Layer Deposition

Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition process renowned for its ability to produce layers with unrivaled control of thickness and composition, conformability to extreme three-dimensional structures, and versatility in the materials it can produce. These range from multi-component co...

Celý popis

Podrobná bibliografie

Médium:	Online
Jazyk:	angličtina
Vydáno:	MDPI - Multidisciplinary Digital Publishing Institute 2021
Témata:	thema EDItEUR::G Reference, Information and Interdisciplinary subjects::GP Research and information: general
On-line přístup:	ONIX_20210501_9783039366521_619
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!